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第七届国际先进光刻技术研讨会 (IWAPS2023)

2023/10/06-2023/10/08
中国·北京市·北京市
学科领域： 光学工程;
检索： EI;
会议形式： 线下会议
出版物： 《Journal of Microelectronic Manufacturing》
主办单位：中国光学学会
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会议简介 Brief Introduction

近年来，中国集成电路产业蓬勃发展，基于这样的形势，国际先进光刻技术研讨会（International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS）应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨即将面临的技术挑战。

作为国内专注于高端光刻技术的研讨会，其发言者多为特邀自光刻及其相关领域的国内外资深专家，代表了其所在领域的国际先进水平。报告内容涉及广泛，涵盖了当前的技术现状、未来的发展趋势以及面临的挑战等。该研讨会旨在为与会者提供一个深入讨论的互动平台，也为想要了解更多国内外半导体业界动态的研究者和工程师提供更多机会。

本次研讨会敞开胸怀，热忱欢迎您的莅临！

重要信息 Highlights

摘要投稿截止日期：2023年7月31日

全文、PPT或Poster投稿截止日期：2023年9月30日

征稿主题 Call for Paper


IWAPS 论文主题

IWAPS致力于发表前沿的微电子制造技术研究成果。会议主题涵盖先进半导体制造领域中从早期的理论和实验，到工业化大规模量产的应用等内容。包括但不局限于:

  • 光刻
  • 极紫外光刻
  • 新型技术
  • 量测及缺陷检测
  • 设计工艺联合优化(DTCO)与可制造性设计(DFM)
  • 材料
  • 工艺


摘要要求

摘要必须清楚地描述论文的性质、研究主题、研究内容、组织结构、要点以及研究意义。且用英文撰写。

摘要必须包括以下内容：论文标题、关键词、作者的姓名、所属单位、邮件地址和通讯地址。摘要的字数不应超过500个单词。对研究内容的细节的描述将增加稿件被接收的可能。同时，我们强烈建议在提交的摘要中使用图表。

主讲嘉宾

主讲嘉宾

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会议标签
光学工程
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张三：
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2022-8-30 9:00:00
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2022-8-30 10:00:00
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