第二届先进半导体器件与集成技术国际学术会议(ASDIT 2026) (ASDIT 2026)

2026/08/28-2026/08/30
中国·江苏省·无锡市
会议形式: 线下会议
出版物: IEEE出版社(ISBN: 979-8-3195-2163-7)
主办单位:江南大学
0
0
18
会议简介 Brief Introduction

第二届先进半导体器件与集成技术国际学术会议(ASDIT 2026)将于2026年8月28-30日在中国江苏无锡举办。本次会议旨在汇聚全球半导体领域的顶尖学者、行业专家和企业领袖,共同探讨最新的研究成果和技术进展。会议将涵盖先进半导体器件的设计、制造、材料及其在各类应用中的创新,包括人工智能、量子计算和5G通信等前沿科技。与会者将有机会参加主题演讲、专题讨论和技术展示,深入了解行业动态,分享前沿经验。

我们诚邀全球的专家学者参与此次盛会,共同推动半导体技术的进步与发展。期待与您相聚无锡,共同探索未来科技的无限可能!

重要信息 Highlights

会议官网:www.asdit.org

会议时间:2026年8月28-30日

会议地点:中国-江苏无锡

发表流程:【投稿】→审稿返修→录用通知→缴费→【注册参会】→电子见刊→纸质论文集→检索;

论文检索:IEEE, EI, Scopus

最终截稿时间:2026年8月14日23:59!不再延期!

组织机构 Organization and Committee
主办单位
logo校标和字.png
承办单位

江南大学集成电路学院

江南大学理学院

无锡市第三代半导体器件与集成技术重点实验室

江南大学-康讯半导体联合实验室

征稿主题 Call for Paper
新型半导体材料及其在器件中的应用、高性能MOSFET设计与优化、能耗效率优化的功率器件技术、超越硅的III-V族化合物半导体器件、微光电半导体传感器及其应用、半导体激光器及其新兴应用领域、石墨烯和其他二维材料器件、量子点和量子阱半导体器件、新型存储器器件:RRAM, MRAM, FeRAM、低温电子器件的挑战与机遇、高频和高功率器件的突破性技术、硅基光电子器件及其集成技术、隧穿场效应晶体管(TFET)器件研究、半导体器件的可靠性与老化机制、先进封装和互连结构对器件性能的影响、三维集成电路及其制造工艺、片上系统(SoC)与集成方法、芯片异构集成技术、封装级集成技术的发展与创新、集成电路中的热管理技术、射频集成电路及其设计优化、人工智能与机器学习在集成电路设计中的应用、先进模拟与混合信号集成电路、电源管理集成电路技术、集成电路设计中的可靠性与安全挑战、硅光子学互连技术、超大规模集成技术的最新进展、新兴存储器集成技术、模块化MEMS与NEMS的集成应用、智能传感系统的集成与创新
注册费用 Registration
类别 注册费用(人民币)
投稿(双栏4页)

3800元/篇

(学生投稿优惠200元/篇,具体可联系会议秘书申请优惠)

超页费(第5页起) 400元/页

摘要投稿

(免费赠送报告名额,提交摘要投稿仅作为交流展示,不提交见刊检索)

1800元/篇
听众参会/青年学者报告/海报展示
1500元/人
出版信息 Publication

IEEE-蓝色.png

本会议所有的投稿都必须经过2-3位组委会专家审稿,经过严格的审稿之后,最终所录用的论文将递交至IEEE出版社(ISBN: 979-8-3195-2163-7),出版后提交至IEEE Xplore、EI Compendex、Scopus检索

参会方式 Type of Attendance

1、作者参会:一篇录用文章允许一名作者免费参会;

2、主讲嘉宾:申请主题演讲,由组委会审核;

3、口头演讲:申请口头报告,时间为15分钟,摘要投稿可申请;

4、海报展示:申请海报展示,A1尺寸,彩色打印;

5、听众参会:不投稿仅参会,也可申请演讲及展示。

主讲嘉宾

主讲嘉宾

Guest Speaker
会议标签
为您推荐
一起来互动吧!
0 / 300
全部评论(--
张三:
commentContent
2022-8-30 9:00:00
回复
昵称1:
replyContent
2022-8-30 10:00:00
回复
距会议开幕还有
00
00
00
00